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Nass iso statisches Pressen ist eine Art kalter iso statischer Pressung (CIP), die haupt sächlich zur omni direktion alen gleichmäßigen Verdichtung von komplex förmigen keramischen Grün körpern verwendet wird. Verwendet Wasser medium zur Übertragung von Ultra hochdruck (50-300Mp), eliminiert Pulvers chichtung und Dichte gradienten, um die Dichte gleichmäßigkeit> 99,8% für große Komponenten (z. g., kernreaktor-Dichtung ringe).

Nass iso statische Pressung (IIP) ist eine Schlüssel ausrüstung bei der Herstellung von High-End-Struktur-und Funktions keramik. Es ist eine der effizientes ten und zuverlässig sten Methoden zur Herstellung von hoch leistungs fähigen, hoch zuverlässigen und komplex geformten fortschritt lichen Keramik teilen. Beispiele hierfür sind keramische Schneidwerk zeuge, keramische Substrate, hochfeste Isolatoren, verschleiß feste Auskleidungen, Dichtung ringe, Keramik buchsen, Keramik komponenten für Halbleiter bauelemente sowie Sensor-und Wandler elemente.

Wird für das Präzisions formen von Keramik komponenten mit komplexen Mikros trukturen verwendet. Verfügt über Schrauben homogen isierungs zuführung und Vakuum form vorgänge zur Beseitigung von Blasen, die die Formung sanford rungen für mikro poröse Strukturen wie Glasfaser verbinder und implant ierbare Sensoren erfüllen.

Keramik-SpritzgussIst ein nahezu netz förmiges Verfahren, das Spritzguss technologie aus der Kunststoff industrie mit Pulver metallurgie techniken integriert. Es eignet sich besonders für die großflächige, hochpräzise und komplex geformte Herstellung von kleinen Keramik teilen.

Speziell für die Hoch geschwindigkeit umformung großer Chargen geometrisch einfacher grüner Körper. Einzel zyklus kompression <15 Sekunden. Das integrierte mehrstufige obere Stanz system ermöglicht kunden spezifische Gradienten dichtes trukturen (z. B. piezo elektrische Keramik wandler). Die Kapazität erreicht 5000 Stück pro Schicht.

Erreicht eine nahezu netz förmige Präzisions formung von keramischen Grün körpern. Setzen Sie flexible Druck anwendung für elastische Formen zur Kontrolle der Dimensions toleranz ein. Geeignet für dünnwandige Strukturen wie mehr schicht ige Halbleiter-Keramik substrate. Grüne Körpers tärke> 30MPa.